“他说的这个湿式名字叫做浸润式，与湿式差不多。但用的介质却不一样，我们一般现在用的是空气，而林本艰提成了用水做为浸润式的介质。”
“水？”
听到水这个词，陈宇陈宇有些激动。
记得前世，其实在开始之初，荷兰aslm与德国，与日本几大光刻机公司实力都差不多。
为什么后来aslm却是一统天下，完全与这一些光刻机公司选择的路线有关。
当时日本，德国，包括美国这一些光刻机公司路线选择出错。
而aslm却是花重金开辟了另一条光刻机生产工艺。
这个工艺，就涉及到水，也就是林本艰现在提到的浸润式。
“您觉得他的这个工艺有没有前途？”
陈宇不是很懂技术，但却知道，这是决定未来光刻机命运的时刻。
在前世2008年之后，全球90%以上生产出来的芯片，用的都是林本艰所提出来的湿式光刻工艺。并且，也正因为林本艰提出了这个湿式工艺，这才将芯片从190纳米，一路做到了130纳米，90纳米，65纳米，40纳米，28纳米，20纳米，16纳米，10纳米，7纳米，和5纳米。甚至，连最为尖端的3纳米，采用的都是林本艰的湿式光刻技术。
“这个，说不准，理论上有可能，但里面还存在着一系列要解决的问题。比如，水会不会产生汽泡，水会不会污染设备，要怎么做防水，水遇热会膨胀，折射率会改变，这又怎么解决……”
张如京向陈宇述说着这一个湿式光刻工艺所面对的问题。
只是，这个时候，陈宇的眼睛已经盯紧了林本艰。
他知道。
未来若干年之后，这一切的问题都不会成为问题。
如果抓住这个林本艰，那么，中国光刻机就有希望了。
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