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第166章 制造单晶硅

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但水刀切割时产生的水压非常高,通常在3000至4000个大气压之间。这种高水压具有很大的冲力,因此在使用时通常需要在密闭的玻璃房内进行,以防止水射流对操作人员造成伤害。

如果需要人工操作,操作人员需要穿戴笨重的防护服,以保护自己免受高压水射流的冲击。此外,水刀切割设备通常配备有安全系统,以确保在操作过程中的安全性。

如果需要人工操作,操作人员需要穿戴笨重的防护服,以保护自己免受高压水射流的冲击。此外,水刀切割设备通常配备有安全系统,以确保在操作过程中的安全性。

水刀切割技术可以切割各种材料,包括金属、石材、玻璃、塑料等。这使得它在工业加工中非常灵活,能够适应不同的材料和加工需求。

在半导体行业中,水刀切割技术可以用于切割单晶硅棒,因为这种材料需要高精度和无热损伤的切割。

俊仁在飞船中使用水刀切割单晶硅棒时,利用了水刀切割技术的高精度和冷切割特性,以确保硅棒在切割过程中不受热损伤和机械损伤。他将硅棒放置在密闭的玻璃房内,并通过电脑连接水刀进行控制,以确保操作的安全性和精确性。这种操作方式不仅提高了切割效率,还减少了对硅棒的损伤,为后续的半导体制造过程提供了高质量的单晶硅材料。

为了达到纳米级的切割精度,俊仁将水的射流调整到纳米级,这导致水压显着增加。高水压能够提供更强的切割能力,但同时也需要更精确的控制。通过调整水压和射流直径,俊仁能够将切割后的硅棒尺寸控制在1/8厘米。这种尺寸的精确控制对于后续的半导体制造过程至关重要。

俊仁在制造单晶硅和普通芯片的过程中,选择使用等离子束进行研磨,这一技术具有显着的优势,可以替代传统的化学抛光工艺。等离子束研磨技术可以在不使用化学抛光剂的情况下,实现高精度的表面处理。这对于单晶硅和普通芯片的制造来说是一个巨大的优势,因为它减少了化学处理步骤,从而降低了成本和环境影响。等离子束研磨能够提供亚纳米级的表面处理精度,显着提升芯片的良率。等离子束研磨可以实现无损伤加工

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