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第281章 光刻机难关

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李浩有些失落的说道:“没关系,失败乃是成功之母。我们第一次进行制造出成品,失败是正常现象。

只要再次总结经验,找到这次失败的原因,我相信智能芯片总会达到我们的要求。”

听到李浩这么说,朱烟波疑惑的问道:“你怎么会认为这次测试失败了。这个测试项目完美成功,甚至比我们想的还要好。

它完美的利用每一个数据,通过对这个地区近20年的降水数据进行总结。得出来和现实分毫不差的结果。”

“成功了!”李浩不可置信的问道,“我看这个软件明明给出台风没有登陆,但我看资料中提到的新闻报道,都是台风马上要登陆的信息。”

看着李浩不可置信的目光,朱烟波解释道:“这个台风的数据是知名台风泰利。它本来是将要登陆我国,结果在即将登陆的时候,拐了一个直角弯直接奔向日苯。

这个软件儿分析的数据很正确,你看他下面已经给出分析过程。通过气压的波动,判断出台风路径将有重大的变化。

软件虽然没有预测台风的路径,但它得出台风不会登陆的结果。

这已经远远超出我们预先设计的目标,没想到智能芯片只是有微弱的智能,它竟然能发挥出这么大的效果。”

王容哲精神焕发,他高兴地说道:“真没想到智能芯片达到的效果比我预计的还好。碳基芯片清瓷科技公司所设计的智能芯片微结构,它们真是能互相促进。

没想到相互配合能发挥这么大作用,一加一得到的结果远远大于二。真的令我很惊讶。”

李浩也惊喜地说道:“那这么说,这个芯片设计工作结束,已经可以开始定型生产了。”

王容哲点点头,同意道:“我们实验室经过详细的设计,已经把明显的缺陷全部探测出来。在想找芯片的缺陷,也只能通过大规模工业化应用后,收集数据改进。

芯片设计到这种程度,完全可以进行工业化生产。刻蚀机和其他加工芯片的设备,我国其他的企业都已经研发出来,性能处在国际领先水平。

现在加工智能芯片的设备也只缺光刻机,等到你们光刻机项目获得成功,就是智能芯片大规模生产之时。”

李浩看着王容哲,一脸轻松的表情。他知道这是王容哲教授对于智能芯片研发成功的喜悦。

在芯片领域,他的责任已经完成。剩下芯片是否能变成工业产品,这就看华夏的工业加工领域是否能达到要求。

李浩看到朱烟波正在收集刚才测试的数据。他知道今天的芯片测试工作已经基本完成。

他向王容哲教授邀请道:“王教授,正好你来到这间实验室。我们一起去看一看光刻机的进度。”

王容哲也十分关心光刻机现在的进度,他立刻同意李浩的邀请。

临走之前,王容哲嘱咐朱烟波采集好智能芯片所有的测试数据。让他收集好数据之后,可以直接回到学校。

李浩带着王容哲来到光刻机项目负责人,孙凯的办公室。

现在电子公司的日常管理,已经交给他的副手。他全面主持光刻机的研发工作。

他们轻轻敲了一下门,就走进这个办公室中。

李浩通过他的特殊眼镜,可以看到孙凯正在学习光刻机与芯片生产的知识。

这真是学到老活到老,知识让人受用无穷。没想到孙凯这么努力的汲取知识。

李浩看到他已经有些恢复的头顶,又稀疏了很多。估计主持光刻机项目后,给他造成的压力很大。

孙凯看到李浩和王容哲进入到他的办公室。邀请他们坐下后,笑着询问道:“李总,你们这次来是有什么事情吗?”

李浩直接提问道:“我想了解一下光刻机项目的进展,特别是光刻机项目被哪些难关阻挡。

就是我们公司的科学家无法解决,我会尽量想办法求助中科院等研究机构,让他们帮我们解决这个问题。”

“这个真是太好了,有几项技术我们一直都没有获得突破。我向您汇报一下。”孙凯面带喜悦的说道。

他立刻就把光刻机项目遇到的难关说了出来。

李浩听完之后,他归纳总结,公司遇到的难关。主要是两个方面还有差距。一个是材料方面,一个是控制系统。

控制系统主要是精细控制,达不到要求。他们加工芯片精度要控制在一纳米。这个也就比原子稍微大一些,任何一点控制系统反应迟钝,都会造成灾难性的后果。

而现在光刻机控制系统的信息处理速度却达不到要求。必须要接收到传感器信息,之后经过系统判断,再传导给光刻机的控制机构。

整个反馈需要的时间太长,主要是没有先进芯片,构成控制系统的核心。导致光刻机加工芯片失败。

这点还可以通过技术手段解决,李浩现在就能想到一个办法,就是把智能芯片运用到这里。

通过刚才王容哲所做的实验,他就知道智能芯片一定会解决这个问题。

第二个难关就是材料问题,由于他们设计的光刻机主要是针对碳基芯片进行加工。

它的结构和平常的光刻机还是有区别的。最关键的就是架设叠加激光器的支架。

这个支架设计指标是让激光去做各种动作,他必须要比人的手指还灵活,反应的时间也要尽可能的短。

支架的结构设计通过项目组科研人员共同努力已经解决,但它需要一种摩擦系数尽可能小的材料,现在还没找到理想的材料。

这只是光刻机项目遇到的普通难关,李浩觉得随着时间的发展,这些问题早晚会得到解决。

最为棘手的问题就是光栅材料问题。现在郭建濯已经研发出稳定的光栅。

但是它有一个特点,必须在曝光之后,短时间内控制光栅内部的晶体结构发生变化。

这需要极为精细的电流激发,解决晶体结构产生的问题,这对控制系统要求很高。

如果不成功,无法解决光栅内部晶体结构的影响,那它控制光路径的效果也随之失效,整个芯片就无法完成加工。

王容哲听到冯凯说完,他突然插话道:“这几个问题解决方法很简单。至于困扰你们这么长时间。”

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