甚至还真有华裔研究员从asml离职，更是平添助力。
江诚给的技术资料已经被啃下来不少，一些核心技术即将突破，如果不出意外的话年中就能把那一套“进口”的核心零件变成一台混血的euv光刻机，争取明年就实现光刻机国产化。
想到这里他就觉得有必要再去下游供应商去转转，不能euv搞定了结果配套搞不成。
原本像净室、光刻胶、换气设备这些国内虽然做不到最好，但也能满足90乃至28纳米生产环境的需要，但现在是euv，最少7nm，规格不够了！
原本这些东西还能从隔海的小日子过的不错的邻居那里买，但现在……意料之中。
不过即使没有他催，现在是个人也都能看出来大陆半导体即将膨胀起来，就算他们想慢慢磨也会被下命令，连光刻机都安时交货了，你们怎么还在拖后腿。
赵远一突然想起了海卫半导体，那边的升级团队已经锻炼出来了，解放出人手之后暂时也可以不用回来，去给其他有意的半导体厂商打打零工也是可以的。
他现在已经开始准备组织人手对3nm技术展开预研了，假如顺利的话，没准还能和国际上的3nm工艺同时投入实用。
魔都微电将不再是之前一直吃亏的小透明，而是会成长的和asml一样高！
毕竟euv和7nm生产设备，短时间内他们还是不会卖的。
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